隨著市場(chǎng)高科技產(chǎn)品的不斷研發(fā)，靶材也在市面上頻頻出現(xiàn)，濺射靶材就是其中的種，它具備優(yōu)良的性能，非常受市場(chǎng)的歡迎，然而還有很多人不知道濺射靶材是干什么用的，今天巨偉鈦業(yè)就來(lái)為大家介紹一下濺射靶材的用途及工作原理吧！
一、濺射靶材的用途
1、微電子領(lǐng)域
在各種應(yīng)用產(chǎn)業(yè)中，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)對(duì)于靶材濺射薄膜的品質(zhì)要求是很苛刻的，比如硅片廠家的要求是高純度、大尺寸、細(xì)晶粒和低偏析，所以這就要求靶材需要有更好的微觀結(jié)構(gòu)。
2、顯示器
近年來(lái)平面顯示器大幅沖擊以陰極射線管為主的電腦顯示器及電視，所以也帶動(dòng)了靶材的技術(shù)及市場(chǎng)需求。目前平面顯示器的薄膜多采用濺射成形。濺射用靶材主要有In2O3、SnO2、MgO、w、Mo、Ni、Cu、Cr等。
3、存儲(chǔ)用
根據(jù)儲(chǔ)存技術(shù)的高密度、大容量硬盤的發(fā)展，就需要大量的巨磁阻薄膜材料，一般在信息存儲(chǔ)行業(yè)中使用濺射靶材制備的相關(guān)薄膜產(chǎn)品有硬盤、磁頭光盤等。
當(dāng)然濺射靶材的用途可不止這些，還可以應(yīng)用于高溫耐蝕、耐磨材料、裝飾用品等行業(yè)，利用濺射靶材制備的各種類型的濺射薄膜材料無(wú)論在半導(dǎo)體集成電路、太陽(yáng)能光伏、記錄介質(zhì)、平面顯示以及工件表面涂層等方面都得到了廣泛的應(yīng)用。
二、濺射靶材工作原理
濺射靶材主要是由靶坯、背板等部分構(gòu)成，靶坯屬于高速離子束流轟擊的目標(biāo)材料，是核心部分，在濺射鍍膜的過(guò)程中，靶坯被離子撞擊后，表面原子被濺射飛散出來(lái)并沉積于基板上制成電子薄膜。因?yàn)楦呒兌冉饘購(gòu)?qiáng)度較低，可是濺射靶材需要安裝在專用的機(jī)臺(tái)內(nèi)完成濺射過(guò)程，機(jī)臺(tái)內(nèi)部為高電壓、高真空環(huán)境，所以超高純金屬的濺射靶坯需要與背板通過(guò)不同的焊接工藝進(jìn)行接合，背板主要起到了固定濺射靶材的作用，以及良好的導(dǎo)電、導(dǎo)熱性能。
以上是對(duì)于濺射靶材是干什么用的這一問(wèn)題的解答，經(jīng)過(guò)以上介紹可知濺射靶材可用于微電子領(lǐng)域、顯示器、存儲(chǔ)用及高溫耐蝕、耐磨材料、裝飾用品等行業(yè)，用途非常廣泛，寶雞巨偉鈦業(yè)有限公司生產(chǎn)的鈦濺射靶材工藝優(yōu)良、質(zhì)量?jī)?yōu)異、種類多樣，隨時(shí)歡迎大家致電或留言咨詢。
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